半色调相移光掩模坯、制造方法和半色调相移光掩模

摘要

提供半色调相移光掩模坯，其包括透明基材和其上的具有150‑200°的相移和9‑40％的透射率的半色调相移膜。该半色调相移膜由过渡金属、Si、O和N组成，具有至少3at％的平均过渡金属含量，并且由多个层组成，该多个层包括具有至少3at％的氧含量的应力松弛层和至少5at％的较高氧含量的相移调节层。

主权项

半色调相移光掩模坯，包括透明基材和在其上相对于波长200nm以下的光提供9％‑40％的透射率和150°‑200°的相移的半色调相移膜，其中所述半色调相移膜由过渡金属、硅、氧和氮组成，具有至少3at％的平均过渡金属含量，并且由多个层组成，该多个层包括至少一个由该过渡金属、硅、氧和氮组成的应力松弛层和至少一个由该过渡金属、硅、氧和氮组成的相移调节层，所述应力松弛层具有最低的至少3at％的氧含量，所述相移调节层具有比该应力松弛层的氧含量高至少2at％的至少5at％的氧含量。