发明名称 一种高屏蔽耐热光纤及其制备方法
摘要 本发明公开了一种高屏蔽耐热光纤及其制备方法,该高屏蔽耐热光纤包括屏蔽层、内包层、芯材三层,其中屏蔽层为碳膜,内包层为二氧化硅基低折射率玻璃,芯材为二氧化硅基高折射率玻璃;其中二氧化硅基低折射率玻璃按分子数量包括二氧化硅85‑92份、二氧化硫2‑3份、二氧化碳2‑3份、氧化硼6‑8份;二氧化硅基高折射率玻璃按分子数量包括二氧化硅85‑92份、五氧化二磷3‑4份、氧化锗8‑10份。本发明的高屏蔽耐热光纤绝缘性强、屏蔽效果好、最小弯曲半径小、耐高温、抗老化、使用寿命长。
申请公布号 CN106477871A 申请公布日期 2017.03.08
申请号 CN201610910875.4 申请日期 2016.10.19
申请人 宁波三博电子科技有限公司 发明人 何异;徐阿宏;黄芳;朱森祥
分类号 C03B37/018(2006.01)I;C03B37/027(2006.01)I;C03C13/04(2006.01)I;C03C25/10(2006.01)I;G02B6/02(2006.01)I 主分类号 C03B37/018(2006.01)I
代理机构 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 代理人 李静
主权项 一种高屏蔽耐热光纤的制造方法,其特征在于包括以下步骤:1)内包层坯材的制备①按分子数量计准备如下份数的原材料:四氟化硅85‑92份、六氟化硫2‑3份、四氟化二碳2‑3份、氧化硼6‑8份,足量纯度不低于99.99%的高纯氧气,足量氯气和适量标准脱泡剂;②准备如下设备:设置有石英管的玻璃车床、氢氧焰发生装置、烧瓶、气体输送管道、热电偶和气体质量流量计;③在烧瓶内盛装四氟化硅、六氟化硫、四氟化二碳、氧化硼,采用常规标准方化进行蒸发处理,获得饱合蒸气;④以步骤①准备的高纯氧气为载气,混合步骤③获得的饱合蒸气,按标准方式加入适量标准脱泡剂,通过设置有气体质量流量计的气体输送管道输送至玻璃车床的石英管内,石英管在玻璃车床上以30r/min‑40r/min的转速旋转;⑤点燃氢氧焰发生装置,轴向移动石英管,使氢氧焰发生装置可均匀加热石英管管体,将热电偶固定在氢氧焰发生装置上方的石英管内加热区域,监控该区域温度;⑥通过监控加热区域温度,当加热至1400℃‑1600℃时调整氢氧焰发生装置的火焰输出,保持温度稳定在1400℃‑1600℃区间内;⑦当石英管内玻璃质沉积到5‑8mm后,即获得了所需内包层坯材;2)心材坯材的制备①按分子数量计准备如下份数的原材料:四氟化硅85‑92份、三氯氧磷3‑4份、四氯化锗8‑10份,足量纯度不低于99.99%的高纯氧气,足量氯气和适量标准脱泡剂;②在烧瓶内盛装四氟化硅、三氯氧磷、四氯化锗,采用常规标准方化进行蒸发处理,获得饱合蒸气;③以步骤①准备的高纯氧气为载气,混合步骤③获得的饱合蒸气,按标准方式加入适量标准脱泡剂,通过设置有气体质量流量计的气体输送管道输送至玻璃车床的石英管内,石英管在玻璃车床上以30r/min‑40r/min的转速旋转;④点燃氢氧焰发生装置,轴向移动石英管,使氢氧焰发生装置可均匀加热石英管管体,将热电偶固定在氢氧焰发生装置上方的石英管内加热区域,监控该区域温度;⑤通过监控加热区域温度,当加热至1400℃‑1600℃时调整氢氧焰发生装置的火焰输出,保持温度稳定在1400℃‑1600℃区间内;⑥当石英管内玻璃质沉积到中间孔径不大于5mm时,即获得所需心材坯材;3)实心玻璃棒坯的制备①将热电偶移至石英管与氢氧焰发生装置垂直对应的外表面上方;②待石英管管壁加热至1800℃‑1900℃时调整氢氧焰发生装置的火焰输出,保持温度稳定在1800℃‑1900℃区间内;③待石英管内玻璃质高温软化收缩至实心时,即获得所需实心玻璃棒坯;4)光纤的制备①采用常规标准方式将3)获得的实心玻璃棒坯拉制成纤维丝;②在纤维丝表面通过物理气相沉方法积包覆一层碳膜,该层碳膜即为屏蔽层;③按标准方法将带有屏蔽层的纤维丝制成所需单模或多模光纤,即获得所需高屏蔽耐热光纤。
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