发明名称 |
竖立基材的连续式薄膜处理设备 |
摘要 |
本发明涉及竖立基材的连续式薄膜处理设备,具有用于基材的放料辊和收料辊、至少一个用于处理基材的处理部段、具有用于输送基材经过该设备并将基材保持于基本竖立的导辊的基材输送装置。该处理部段和导辊如此相对布置,基材的输送路段以顺随曲线β的多边形曲线的形式构成,其中所述导辊布置在输送路段的一侧,而该处理装置布置在另一侧。另外,放料辊和收料辊水平布置,放料部段和收料部段分别具有包括至少一个转向辊的转向机构用于使基材从平放转至竖立或反之亦然。 |
申请公布号 |
CN106480421A |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201610726547.9 |
申请日期 |
2016.08.25 |
申请人 |
索莱尔有限公司 |
发明人 |
B·P·廷卡姆;A·N·潘考 |
分类号 |
C23C14/56(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
王小东 |
主权项 |
一种用于在真空条件下处理柔性带状的基材(2)的连续式薄膜处理设备,其中该连续式薄膜处理设备包括以下组成部件:‑具有用于输送出所述基材(2)的放料辊(7)的放料部段(16),‑包括用于接收所述基材(2)的收料辊(8)的收料部段(17),‑至少一个处理部段(1),用于处理在放料部段(16)和收料部段(17)之间行进经过所述连续式薄膜处理设备的所述基材(2),‑基材输送装置,该基材输送装置具有多个导辊(3),所述导辊用于至少在所述处理部段(1)内的输送过程中保持所述基材(2)基本竖立并用于输送所述基材(2)经过所述连续式薄膜处理设备,其中所述基材(2)未被引导地从一个导辊移向下一个导辊(3),其特征是,‑所述处理部段(1)和位于其中的所述导辊(3)相对布置成使得基本竖立的所述基材(2)的输送路段(4)以顺随曲线β的多边形曲线(6)的形式构成,‑其中这些导辊(3)设置在所述输送路段(4)的一侧且所述处理装置(11)设置在另一侧,‑其中所述放料辊(7)和所述收料辊(8)是水平布置的,‑在所述放料部段(16)中和所述收料部段(17)中分别设有转向机构,所述转向机构分别具有至少一个转向辊(9),用于使所述基材(2)从平放转为竖立或从竖立转为平放。 |
地址 |
德国克塞尔斯多夫 |