发明名称 | 在CVD反应器中被涂覆的扁平构件 | ||
摘要 | 本发明涉及一种带有扁平构件(11、12)的CVD反应器以及扁平构件(11、12、15、17),所述扁平构件(11、12、15、17)具有两个相互平行延伸且以厚度(d)相互间隔的宽侧(3、3′),其中,每个宽侧(3、3′)的外部边缘(5)通过构成具有边棱倒圆部半径(R)和边棱倒圆部弧长(α)的边棱倒圆部无弯折地向外部的周向侧(4)的边缘过渡,其中,厚度(d)明显小于与宽侧面表面等效的圆直径(D),其中,构件(11、12、15、17)构成由石墨制成的芯体(1),所述芯体的材料与由SiC或TaC制成的涂层(2)的材料相比具有更大的热膨胀系数,宽侧(3、3′)和周向侧(4)在高于室温的涂覆温度下被所述涂层(2)涂覆,以至于在室温下涂层具有压应力。为了降低涂层(2)与芯体(1)之间的应力建议,边棱倒圆部弧长(α)大于90°,并且边棱倒圆部半径(R)为最多1mm和/或大于涂层(2)的厚度,其中,周向侧(4)具有无弯折地相互过渡、构成至少一个凹处(6)的倒圆区段。 | ||
申请公布号 | CN106488997A | 申请公布日期 | 2017.03.08 |
申请号 | CN201580035721.9 | 申请日期 | 2015.06.25 |
申请人 | 艾克斯特朗欧洲公司 | 发明人 | M.科尔伯格;D.布赖恩 |
分类号 | C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 侯宇 |
主权项 | 一种带有扁平构件(11、12)的CVD反应器,所述扁平构件(11、12、15、17)具有两个相互平行延伸且以厚度(d)相互间隔的宽侧(3、3′),其中,每个宽侧(3、3′)的外部边缘(5)通过构成具有边棱倒圆部半径(R)和边棱倒圆部弧长(α)的边棱倒圆部无弯折地向外部的周向侧(4)的边缘过渡,其中,厚度(d)明显小于与宽侧面表面等效的圆直径(D),其中,所述扁平构件(11、12、15、17)构成芯体(1),所述芯体的材料与涂层(2)的材料相比具有更大的热膨胀系数,宽侧(3、3′)和周向侧(4)在高于室温的涂覆温度下被所述涂层涂覆,以至于在室温下涂层具有压应力,其特征在于,边棱倒圆部弧长(α)大于90°,用于降低涂层(2)与芯体(1)之间的应力。 | ||
地址 | 德国黑措根拉特 |