发明名称 |
微影术系统及其使用方法 |
摘要 |
一种微影术系统及其使用方法,微影术系统包括一负载锁定腔室,此负载锁定腔室包括配置用以接收遮罩的开口;曝光模块,其配置用以经由使用遮罩,使半导体晶圆曝露于光源;及清洗模块,其嵌入在此微影术工具内,此清洗模块配置用以自遮罩清洗碳粒子。本发明内容可提供一种用于高级微影术技术中,保持遮罩干净且无缺陷的方法。此方法所形成的干净无缺陷遮罩,可提升微影术工艺的良率与精准度。 |
申请公布号 |
CN106483772A |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201510860745.X |
申请日期 |
2015.11.30 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
张书豪;陈家桢;陈政宏;高国璋;简铭进;简上傑;严涛南;黄建元 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国 |
主权项 |
一种微影术系统,其特征在于,包括:一负载锁定腔室,其包括一配置用以接收一遮罩的开口;一曝光模块,其配置用以经由使用该遮罩使一半导体晶圆曝光至一光源;以及一清洗模块,其嵌入在该微影术工具内,该清洗模块配置用以自该遮罩清洗碳粒子。 |
地址 |
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号 |