发明名称 微影术系统及其使用方法
摘要 一种微影术系统及其使用方法,微影术系统包括一负载锁定腔室,此负载锁定腔室包括配置用以接收遮罩的开口;曝光模块,其配置用以经由使用遮罩,使半导体晶圆曝露于光源;及清洗模块,其嵌入在此微影术工具内,此清洗模块配置用以自遮罩清洗碳粒子。本发明内容可提供一种用于高级微影术技术中,保持遮罩干净且无缺陷的方法。此方法所形成的干净无缺陷遮罩,可提升微影术工艺的良率与精准度。
申请公布号 CN106483772A 申请公布日期 2017.03.08
申请号 CN201510860745.X 申请日期 2015.11.30
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 张书豪;陈家桢;陈政宏;高国璋;简铭进;简上傑;严涛南;黄建元
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国
主权项 一种微影术系统,其特征在于,包括:一负载锁定腔室,其包括一配置用以接收一遮罩的开口;一曝光模块,其配置用以经由使用该遮罩使一半导体晶圆曝光至一光源;以及一清洗模块,其嵌入在该微影术工具内,该清洗模块配置用以自该遮罩清洗碳粒子。
地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号