发明名称 |
一种GaN基发光二极管外延片及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种GaN基发光二极管外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。外延片包括衬底、缓冲层、未掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,多量子阱层为多周期结构,每个周期包括InGaN量子阱层和在InGaN量子阱层上生长的量子垒层,量子垒层包括第一InGaN层以及在第一InGaN层上依次生长的AlGaN层和第二InGaN层。本发明通过上述方案,与InGaN量子阱层接触的为量子垒层中的第一InGaN层和第二InGaN层,三者材料相同,晶格失配度小,产生应力小,压电极化电场的作用弱,InGaN量子阱层和量子垒层的能带弯曲度变小,增强了对载流子的束缚能力,当注入大电流时,不会形成严重的漏电流。 |
申请公布号 |
CN103500779B |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201310396504.5 |
申请日期 |
2013.09.03 |
申请人 |
华灿光电股份有限公司 |
发明人 |
吉亚莉;魏世祯;陈柏松;胡加辉;谢文明 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/28(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
徐立 |
主权项 |
一种GaN基发光二极管外延片,所述外延片包括衬底以及在所述衬底上依次生长的缓冲层、未掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,所述多量子阱层为多周期结构,每个周期包括InGaN量子阱层和在所述InGaN量子阱层上生长的量子垒层,其特征在于,所述量子垒层包括第一InGaN层以及在所述第一InGaN层上依次生长的AlGaN层和第二InGaN层;每个周期的所述第一InGaN层、所述AlGaN层和所述第二InGaN层均包括多个子层,每个周期的所述第一InGaN层中,各子层的In组分含量从下至上递减,每个周期的所述AlGaN层中,各子层的Al组分含量从下至上先递增后递减或者先递增后不变再递减,每个周期的所述第二InGaN层中,各子层的In组分含量从下至上递增;各周期的所述AlGaN层中,具有最大Al组分含量的子层的Al组分含量从下至上递减;或者,各周期的所述AlGaN层中,具有最大Al组分含量的子层的Al组分含量从下至上先递增后递减。 |
地址 |
430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号 |