发明名称 一种GaN基发光二极管外延片及其制作方法
摘要 本发明公开了一种GaN基发光二极管外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。外延片包括衬底、缓冲层、未掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,多量子阱层为多周期结构,每个周期包括InGaN量子阱层和在InGaN量子阱层上生长的量子垒层,量子垒层包括第一InGaN层以及在第一InGaN层上依次生长的AlGaN层和第二InGaN层。本发明通过上述方案,与InGaN量子阱层接触的为量子垒层中的第一InGaN层和第二InGaN层,三者材料相同,晶格失配度小,产生应力小,压电极化电场的作用弱,InGaN量子阱层和量子垒层的能带弯曲度变小,增强了对载流子的束缚能力,当注入大电流时,不会形成严重的漏电流。
申请公布号 CN103500779B 申请公布日期 2017.03.08
申请号 CN201310396504.5 申请日期 2013.09.03
申请人 华灿光电股份有限公司 发明人 吉亚莉;魏世祯;陈柏松;胡加辉;谢文明
分类号 H01L33/06(2010.01)I;H01L33/28(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/06(2010.01)I
代理机构 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人 徐立
主权项 一种GaN基发光二极管外延片,所述外延片包括衬底以及在所述衬底上依次生长的缓冲层、未掺杂的GaN层、n型层、多量子阱层和p型层,所述多量子阱层为多周期结构,每个周期包括InGaN量子阱层和在所述InGaN量子阱层上生长的量子垒层,其特征在于,所述量子垒层包括第一InGaN层以及在所述第一InGaN层上依次生长的AlGaN层和第二InGaN层;每个周期的所述第一InGaN层、所述AlGaN层和所述第二InGaN层均包括多个子层,每个周期的所述第一InGaN层中,各子层的In组分含量从下至上递减,每个周期的所述AlGaN层中,各子层的Al组分含量从下至上先递增后递减或者先递增后不变再递减,每个周期的所述第二InGaN层中,各子层的In组分含量从下至上递增;各周期的所述AlGaN层中,具有最大Al组分含量的子层的Al组分含量从下至上递减;或者,各周期的所述AlGaN层中,具有最大Al组分含量的子层的Al组分含量从下至上先递增后递减。
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