发明名称 |
热敏转印记录介质及其制造方法、以及热敏转印记录方法 |
摘要 |
本发明提供一种热敏转印记录介质,其在高速印刷时的转印灵敏度高,可以减少在高浓度部中发生的画质不良(即印刷品表面部分消光)的现象,并且能够防止由印刷时产生的褶皱引起的印刷不良。本发明的热敏转印记录介质中,含有水溶性高分子作为主成分的所述底涂层在23℃/50%下的平衡吸湿率为15%以下,优选为13%以下,另外更优选的是,所述耐热润滑层的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值α为0.05~0.40μm,并且在150℃、10分钟的条件下静置后的该耐热润滑层的表面粗糙度(均方根偏差Sq)的平均值β为0.00~0.70μm,所述平均值α与所述平均值β的差为0.00~0.30μm。 |
申请公布号 |
CN104105603B |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201380008108.9 |
申请日期 |
2013.01.29 |
申请人 |
凸版印刷株式会社 |
发明人 |
福永悟大;大和丈仁;杉下康雄;平井瑶子 |
分类号 |
B41M5/382(2006.01)I;B41M5/40(2006.01)I;B41M5/42(2006.01)I |
主分类号 |
B41M5/382(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
丁业平;张苏娜 |
主权项 |
一种热敏转印记录介质,具有基材、在该基材的一侧面上形成的耐热润滑层、在所述基材的另一侧面上形成的底涂层、以及在该底涂层的与所述基材相对的面的相反面上形成的染料层,其特征在于,所述底涂层中含有水溶性高分子作为主成分,并且在温度为23℃且湿度为50%的条件下的平衡吸湿率为15%以下,所述耐热润滑层的表面粗糙度以均方根偏差Sq计的平均值α为0.05~0.40μm,并且在150℃、10分钟的条件下静置后的所述耐热润滑层的表面粗糙度以均方根偏差Sq计的平均值β为0.00~0.70μm,所述平均值α与所述平均值β的差为0.00~0.30μm。 |
地址 |
日本东京 |