一种适用于HFCVD设备的温度场补偿装置

摘要

本发明涉及一种适用于HFCVD设备的温度场补偿装置，HFCVD设备包括密闭的反应室，工作台(9)，衬底(5)，试样(6)和热丝(4)，工作台(9)设置在反应室内，在工作台(9)上放置所述衬底(5)，热丝(4)设置在工作台(9)上，并悬于衬底(5)上方，工作台(9)内还通循环冷却水(7)，反应室上方还设有供反应气体通入的进气口，温度场补偿装置包括设置在工作台(9)上多块热反射板(2)，反射板(2)相互连接成一体，并形成围绕衬底(5)的反射盖，在反射盖的上部还开有供反应气体进出的通口。与现有技术相比，本发明能较好得提升HFCVD设备衬底温度场均匀性，提升制备金刚石薄膜的质量，节约能源，同时结构简单，易于加工等。

主权项

一种适用于HFCVD设备的温度场补偿装置，所述的HFCVD设备包括密闭的反应室，工作台(9)，衬底(5)，试样(6)和热丝(4)，所述的工作台(9)设置在反应室内，在工作台(9)上放置所述衬底(5)，所述的热丝(4)设置在工作台(9)上，并悬于衬底(5)上方，所述的工作台(9)内还通循环冷却水(7)，所述的反应室上方还设有供反应气体通入的进气口，其特征在于，所述的温度场补偿装置包括设置在工作台(9)上多块热反射板(2)，所述的反射板(2)相互连接成一体，并形成围绕衬底(5)的反射盖，在反射盖的上部还开有供反应气体进出的通口。