发明名称 |
具备自身校准的深度摄影装置以及自身校准方法 |
摘要 |
本发明公开了一种具备自身校准的深度摄影装置以及相关的自身校准方法。深度摄影装置包括投影装置、取像装置以及校准模块。投影装置基于预设校准模板与预设深度计算模板,投射校准模板与深度计算模板至基准面。取像装置截取包括校准模板与深度计算模板的影像。校准模块耦接取像模块,依据影像的校准模板、预设校准模板以及对应于预设校准模板的预设对照表,调整深度摄影装置的多个装置参数以校准深度计算误差。 |
申请公布号 |
CN106488204A |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201510946892.9 |
申请日期 |
2015.12.17 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
汪德美;施仁忠 |
分类号 |
H04N9/31(2006.01)I;H04N13/04(2006.01)I |
主分类号 |
H04N9/31(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
宋焰琴 |
主权项 |
一种具备自身校准的深度摄影装置,其特征在于包括:投影装置,基于预设校准模板与预设深度计算模板,投射校准模板与深度计算模板至基准面,其中所述校准模板合并于所述深度计算模板;取像装置,截取包括所述校准模板与所述深度计算模板的影像;以及校准模块,耦接所述取像模块,依据所述影像的所述校准模板、所述预设校准模板以及对应于所述预设校准模板的预设对照表,调整所述深度摄影装置的多个装置参数以校准深度计算误差。 |
地址 |
中国台湾新竹县竹东镇中兴路4段195号 |