光敏印章机曝光通用模板

摘要

本实用新型提供一种光敏印章机曝光通用模板，包括通用模板座、固定模具、缓冲垫，通过将光敏印垫固定在固定模具中，并将固定模具定位连接在通用模板座上，实现光敏印垫与印章图案样稿的自动对正；缓冲垫均匀覆盖在矩形凹槽外侧通用模板座的底面上，且与感光玻璃相配合，实现感光玻璃的密封；通用模板座的自重实现光敏印垫的压缩。本实用新型提供的光敏印章机曝光通用模板，其自动对正的精度高，操作简单，提高了生产效率及生产质量，同时，可利用不同的固定模具实现光敏印垫的批量生产，节约人员成本。

主权项

一种光敏印章机曝光通用模板，包括通用模板座、固定模具、缓冲垫，其特征在于，所述通用模板座的底面设有矩形凹槽，所述矩形凹槽的底面均匀设有定位孔；所述固定模具的顶端为定位销，所述定位销与定位孔卡紧连接，固定模具的底端为矩形块，所述矩形块的底面设有固定槽；所述缓冲垫均匀覆盖在矩形凹槽外侧通用模板座的底面上。