发明名称 |
发光器件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种有机发光器件,其包括堆叠层,该堆叠层包括:具有发光表面(12)的电光层结构(10);与发光表面相邻的光提取结构(20),所述光提取结构具有纳米结构层(22);以及回填层(24),所述回填层包括具有不同于第一折射率的第二折射率的材料,其中回填层(24)在纳米结构层(22)之上形成平坦化层。发光器件包括阻挡膜,所述阻挡膜包括第一无机层(22)和第二无机层(26)以及布置在所述无机层之间的有机层(24)。阻挡膜的无机层中的最靠近电光层结构的一个无机层(22)形成纳米结构层,并且在无机层之间的有机层(24)形成回填层。 |
申请公布号 |
CN103460435B |
申请公布日期 |
2017.03.08 |
申请号 |
CN201280016963.X |
申请日期 |
2012.02.28 |
申请人 |
荷兰应用自然科学研究组织TNO |
发明人 |
爱德华·威廉·艾伯特;C-C·范 |
分类号 |
H01L51/52(2006.01)I;H01L51/00(2006.01)I;G02B5/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/52(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
顾晋伟;全万志 |
主权项 |
一种包括堆叠层的有机发光器件,所述堆叠层包括:‑具有发光表面(12)的电光层结构(10),‑与所述发光表面相邻的光提取结构(20),所述光提取结构具有纳米结构层,所述纳米结构层具有第一折射率;以及回填层,所述回填层包括具有第二折射率的材料,所述第二折射率与所述第一折射率相差至少0.1,其中所述回填层在所述纳米结构层之上形成平坦化层,所述发光器件包括阻挡膜,所述阻挡膜包括第一无机层(22)和第二无机层(26)以及布置在所述无机层之间的有机层(24),其特征在于,所述阻挡膜的所述无机层中最靠近所述电光层结构的第一无机层(22)形成所述纳米结构层,并且在所述无机层之间的所述有机层(24)形成所述回填层,以及形成所述纳米结构层的所述阻挡膜的所述无机层中最靠近所述电光层结构的第一无机层(22)在两侧具有相互共形的纳米图案化凸纹,所述纳米图案化凸纹由所述第一无机层的提取元件提供,所述提取元件在由所述纳米结构层所限定的平面中的外接圆具有在40nm至200nm范围内的直径D,并且提取元件具有所述直径D的0.5倍至2倍范围内的高度H。 |
地址 |
荷兰代夫特 |