ＣＭＰ用研磨液及びこれを用いた研磨方法

摘要

【課題】高い段差除去性を達成可能なＣＭＰ用研磨液を提供する。【解決手段】砥粒と、第一の添加剤と、第二の添加剤と、水とを含有し、前記第一の添加剤が、下記一般式（１）で表される４−ピロン系化合物を含み、前記第二の添加剤が、芳香環又はピリジン環と酸性官能基とを有する有機酸、及び、アミノ基を有する有機酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、ＣＭＰ用研磨液。【化１】［式（１）中、Ｘ１１、Ｘ１２及びＸ１３は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基である。］【選択図】なし