Neuer Entwickler für Lithografie

摘要

Ein Verfahren zur Lithografie-Strukturierung enthält ein Bilden einer Materialschicht über einer Trägerschicht; ein Belichten eines Teils der Materialschicht mit einer Strahlung; und ein Entfernen des belichteten Teils der Materialschicht in einem Entwickler, was zu einer strukturierten Materialschicht führt. Der Entwickler umfasst ein organisches Lösemittel und einen basischen gelösten Stoff, wobei das organische Lösemittel mehr als 50 Gewichtsprozent des Entwicklers ausmacht. In einer Ausführungsform umfasst der Entwickler ferner Wasser, das weniger als 50 Gewichtsprozent des Entwicklers ausmacht.