发明名称 半導体装置の製造方法
摘要 IGBT(50)は、p+コレクタ領域(3)およびn−−ドリフト領域(1)を備えており、n−−ドリフト領域(1)上に第1トランジスタ(TR1)および第2トランジスタ(TR2)が形成されたものである。n−−ドリフト領域(1)には、p型の正孔引き抜き領域(14)が第2トランジスタ(TR2)と接して形成されている。IGBT(50)がオン状態のときに、第1トランジスタ(TR1)を通して電子および正孔が流れるが、第2トランジスタ(TR2)を通して電流が流れない。一方、IGBT(50)がオン状態からオフ状態に切り替わったとき、第1トランジスタ(TR1)を通して正孔が流れ、正孔引き抜き領域(14)および第2トランジスタ(TR2)を通して正孔が流れる。
申请公布号 JPWO2015029175(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150533857 申请日期 2013.08.29
申请人 株式会社日立製作所 发明人 吉元 広行;島 明生;久本 大
分类号 H01L29/739;H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L29/739
代理机构 代理人
主权项
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