レジストパターンに塗布される塗布液及び反転パターンの形成方法

摘要

【課題】従来のリンス液の代わりに用いられる、レジストパターンに塗布される塗布液を提供する。【解決手段】下記式（１）で表される構造単位及び下記式（２）で表される構造単位を有する重量平均分子量５００乃至３５００のポリマーと、水を主成分とする溶剤とを含む、レジストパターンに塗布される塗布液。【化１】（式中、Ｒ１は炭素原子数１乃至８の有機基を表す。）【選択図】図１