レジストパターン形成方法及びリソグラフィー用現像液

摘要

【課題】レジストパターン形成方法及びリソグラフィー用現像液の提供。【解決手段】支持体上に、レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程１、前記レジスト膜を露光する工程２、前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程３を有し、前記工程３における現像を、（Ａ）下記一般式（１）で表される塩基性化合物と、（Ｂ）水酸化テトラブチルアンモニウムと、を含み、前記（Ｂ）の濃度が２．５質量％以上、２．８質量％未満である現像液を用いて行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。［一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である。Ｒ１〜Ｒ４で表されるそれぞれのアルキル基に含まれる炭素原子の数の和は４〜１５である。］［化１］【選択図】なし