发明名称 光照射装置
摘要 本発明は、被処理物を高い処理効率で均一に処理することのできる光照射装置を提供することを目的とするものである。本発明の光照射装置は、被処理物を配置する被処理物支持台と、被処理物の被処理面に対して真空紫外線を照射する紫外線ランプと、被処理物と紫外線ランプとの間に配置された、紫外線ランプからの真空紫外線を透過する光透過窓部材とを備え、被処理物の被処理面と光透過窓部材との間に形成される間隙の距離が1mm以下とされており、当該間隙に、当該被処理面に沿うように一方向に向けて処理ガスを供給するガス供給手段が設けられており、前記被処理物支持台における、前記処理ガスの供給方向に伸び、被処理物が位置しない領域に、遮風部材が配設されていることを特徴とする。
申请公布号 JPWO2015037573(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150509648 申请日期 2014.09.09
申请人 ウシオ電機株式会社 发明人 羽生 智行
分类号 H01L21/304;G02F1/13;H01L21/027 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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