レジストパターン形成方法及び保護膜形成用組成物

摘要

【課題】ナノエッジラフネスを改善することができ、感度も十分満足すると共に、アウトガスの発生も抑制可能な新規のレジストパターン形成方法の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、感放射線性樹脂組成物でレジスト膜を形成する工程、保護膜形成用組成物で上記レジスト膜上に保護膜を積層する工程、上記保護膜が積層されたレジスト膜を露光する工程、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程を有し、上記保護膜形成用組成物が、［Ａ］下記式（ｉ−２）で表される構造単位を有する重合体、及び［Ｂ］有機溶媒を含有するレジストパターン形成方法である。【選択図】なし