发明名称 半導体装置およびその製造方法
摘要 本発明は、高熱伝達であり、かつ、工作性に優れた半導体装置およびその製造方法を提供する。本発明は、絶縁基板13と、絶縁基板上に設けられた半導体チップ11と、絶縁基板裏面に、接合材23を介して接合された冷却部材12とを備える。絶縁基板は、絶縁板(6)と、絶縁板両面に設けられた導板5および導板7とを備える。冷却部材は、アルミニウムで構成される熱応力吸収部材1と熱伝導金属部材2とが一体となった複合部材である。熱応力吸収部材は、絶縁基板裏面と接合する側に配置され、熱応力吸収部材の降伏応力が、接合材の降伏応力より小さい。
申请公布号 JPWO2015029511(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150534025 申请日期 2014.05.21
申请人 三菱電機株式会社 发明人 小林 浩;大本 洋平;曽田 真之介;田屋 昌樹
分类号 H01L23/36;H01L23/12;H01L23/473;H01L25/07;H01L25/18 主分类号 H01L23/36
代理机构 代理人
主权项
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