| 摘要 |
【課題】 コロイダルシリカに特定の添加剤を組み合わせたことで研磨速度を向上しうる、タンタル酸リチウム又はニオブ酸リチウム等の酸化物単結晶基板の研磨スラリー及びその製造方法を提供する。【解決手段】 研磨剤としてコロイダルシリカを含む酸化物単結晶基板の研磨用スラリーであって、前記コロイダルシリカは、粒子径が５〜５４ｎｍのシリカ粒子Ａ、５５〜９４ｎｍのシリカ粒子Ｂ、９５〜１４４ｎｍのシリカ粒子Ｃを含み、しかもシリカ粒子Ａとシリカ粒子Ｂの個数比率が４０：６０〜６０：４０の範囲であり、かつ、シリカ粒子Ｂとシリカ粒子Ｃの個数比率が６５：３５〜８０：２０の範囲に調整された粒度分布を有することを特徴とする酸化物単結晶基板の研磨用スラリーなどによって提供する。【選択図】 なし |
