发明名称 塗膜形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器
摘要 細い線幅を有する細線を含むパターンを安定に形成でき、細線部のパターニング所定位置外の固形分残留を低減できる塗膜形成方法を提供することを目的とし、当該塗膜形成方法は、機能性材料を含む液体を基材1上に塗布して形成したパターン2を乾燥させることにより前記機能性材料が縁部に選択的に堆積された塗膜を形成する際に、前記液体が、前記機能性材料との親和性が高い溶剤と、前記機能性材料との親和性が低い溶剤とを含むことにより、前記機能性材料を前記塗膜の前記縁部に堆積させる。
申请公布号 JPWO2015005457(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150526415 申请日期 2014.07.10
申请人 コニカミノルタ株式会社 发明人 新妻 直人;大屋 秀信;牛久 正幸;山内 正好
分类号 B05D5/12;B05D1/34;B05D7/00;B05D7/24;B32B33/00;H01B5/14;H05K3/10;H05K3/12 主分类号 B05D5/12
代理机构 代理人
主权项
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