| 摘要 |
【課題】製造工程を増やすことなく、高精度かつ高い信頼性をもつ時計部品を提供する。【解決手段】積層基板３１４のデバイス層３１３に酸化膜４０１を形成し、酸化膜４０１の表側面に第１のレジストパタンを形成した後、酸化膜４０１およびデバイス層３１３に対して、第１のレジストパタン部分を残して残余を除去する第１のエッチング工程をおこなう。つぎに、支持層３１１の裏側面に、第２のレジストパタンを形成し、この支持層３１１に対して第２のレジストパタン部分を残して残余を除去する支持層エッチングをおこない、その後、所定領域内における中間層３１２および酸化膜４０１を除去することにより時計部品を製造する。【選択図】図１２ |
