| 摘要 |
【課題】高品質でかつ層数制御されたグラフェン膜とそのグラフェン膜を得るために最適なサファイア基板を提供する。グラフェン膜を高品質化し、かつ層数制御を可能とするために最適なグラフェン膜成長用サファイア基板の特性を明らかにする。【解決手段】グラフェン成長用サファイア基板の成長面の表面粗さをRa5ｎｍ未満とすることにより、高品質でかつ層数制御されたグラフェン膜を得ることができる。成膜面の表面粗さRaが５ｎｍ未満である単結晶サファイア基板と、前記成膜面上に成長した金属膜と、前記金属膜上に成長したグラフェン膜を有する複合体とする。【選択図】なし |
