スパッタリング用シリコンターゲット材及びそのターゲット材に割れ防止層を形成する方法

摘要

【課題】スパッタリング時に、非エロージョン部表面にＳｉＯｘが堆積して、非エロージョン部表面にＳｉＯｘの膜が形成されても、ターゲット材は割れず、これによりターゲット材の利用率を向上するとともに、ターゲット材の交換に伴う成膜装置のメンテナンス頻度を低減する。【解決手段】本発明のスパッタリング用シリコンターゲット材１０は、スパッタリング雰囲気に少なくとも酸素ガスを含んでマグネトロンスパッタリングを行うときに使用される。このターゲット材１０は、マグネトロンスパッタリング時に、シリコンターゲット材１０の表面がスパッタされてエロージョン部となる第１領域１１と、スパッタされない非エロージョン部となる第２領域１２とを有する。また第２領域１２にスパッタリング中にターゲット材の割れを防止する層１３を有する。【選択図】図１