发明名称 半導体基板および半導体基板の製造方法
摘要 第1超格子層が、第1層および第2層からなる第1単位層を複数有し、第2超格子層が、第3層および第4層からなる第2単位層を複数有し、第1層が、Alx1Ga1−x1N(0<x1≦1)からなり、第2層が、Aly1Ga1−y1N(0≦y1<1、x1>y1)からなり、第3層が、Alx2Ga1−x2N(0<x2≦1)からなり、第4層が、Aly2Ga1−y2N(0≦y2<1、x2>y2)からなり、第1超格子層の平均格子定数と第2超格子層の平均格子定数とが異なり、第1超格子層および第2超格子層から選択された1以上の層に、耐電圧を向上する不純物原子が、7×1018[atoms/cm3]を超える密度で含まれる半導体基板を提供する。
申请公布号 JPWO2015015800(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150529391 申请日期 2014.07.29
申请人 住友化学株式会社 发明人 佐沢 洋幸
分类号 H01L21/20;C23C16/34;C30B25/02;C30B29/38;H01L21/205;H01L21/338;H01L29/812 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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