| 摘要 |
【課題】レジスト下層膜上に形成されるレジストパターンの当該レジスト下層膜との密着性を増大させるために、レジスト下層膜の表面状態を疎水性状態に改質させるレジスト下層膜形成組成物用添加剤、及びそれを含むレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含むレジスト下層膜形成組成物用添加剤、並びに樹脂バインダー、有機溶剤及び前記添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物。【化１】（式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、Ｘはヒドロキシ基を有しない、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又はヘテロ原子が酸素原子である複素環基を表す。）【選択図】なし |
