发明名称 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスク並びに半導体装置の製造方法
摘要 高感度の欠陥検査装置を用いた欠陥検査において、基板や膜の表面粗さに起因する疑似欠陥検出を抑制し、異物や傷などの致命欠陥の発見を容易にすることが可能な反射型マスクブランクを提供する。マスクブランク用基板の主表面の上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した多層反射膜及び吸収体膜を含むマスクブランク用多層膜を有する反射型マスクブランクであって、前記反射型マスクブランク表面における1μm×1μmの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られるベアリングエリア(%)とベアリング深さ(nm)との関係において、(BA70−BA30)/(BD70−BD30)≧60(%/nm)の関係を満たし、かつ最大高さ(Rmax)≦4.5nmであることを特徴とする反射型マスクブランクである。
申请公布号 JPWO2015041023(A1) 申请公布日期 2017.03.02
申请号 JP20150504435 申请日期 2014.08.29
申请人 HOYA株式会社 发明人 浜本 和宏;淺川 竜男;笑喜 勉
分类号 H01L21/027;G03F1/24 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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