磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク

摘要

磁気ディスク用ガラス基板は、ガラス組成として、モル％表示でＬｉ２Ｏを０．１〜１％含有する。このガラス基板の破壊靱性値ＫＩＣ［ＭＰａ・ｍ１／２］が１［ＭＰａ・ｍ１／２］以上である。ガラス基板表面には化学強化による圧縮応力層が設けられ、前記圧縮応力層の深さＤ［μｍ］がＤ≧５７・ＫＩＣ−1.6、かつＤ≧２０［μｍ］を満足する。このガラス基板は、化学強化処理の条件を調整することにより得られる。