| 摘要 |
【課題】マスク、サセプタを用いた原子層成長装置において、マスクやサセプタに対する粒子の付着を防止する。【解決手段】基板上に薄膜を形成する原子層成長装置であって、成膜容器と、成膜容器内に設置されたステージと、ステージ上で基板を保持するサセプタと、基板上に配置され、基板を囲む大きさのマスクと、マスクを支持して上下に可動可能なマスクピンと、ステージおよびサセプタを上下に貫通して、マスクピンが上下動可能に挿通されるマスクピン穴を備え、サセプタは、基板の保持面を有するサセプタ本体と、サセプタ本体の周囲に位置して保持面よりも低い高さのサセプタ周縁部とを有し、マスクピン穴は、サセプタ周縁部に開口し、サセプタ周縁部には、マスクの囲み領域内で、保持面の周囲にガスを上方側に排出する不活性ガス供給口が設けられ、不活性ガス供給口に不活性ガスを供給する不活性ガス供給路が接続されている。【選択図】図３ |
