发明名称 苯并双(噻二唑)衍生物及含有其的有机电子装置
摘要 本发明涉及由通式(1)表示的苯并双(噻二唑)衍生物。(在所述式中,R表示含有至少一个氟原子(条件是,氟原子(F)和三氟甲基(‑CF3)除外)的基团,并且m表示1‑10的整数。)<img file="DDA0000613646340000011.GIF" wi="1395" he="446" />
申请公布号 CN104321327B 申请公布日期 2017.03.01
申请号 CN201380026862.5 申请日期 2013.03.15
申请人 宇部兴产株式会社 发明人 时任静士;熊木大介;岛秀好;小田广行;田中康裕;垣田一成;町田利一;米田康洋;小俣洋治;岛野哲郎
分类号 C07D513/04(2006.01)I;C09D11/00(2014.01)I;H01L29/786(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I 主分类号 C07D513/04(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 马爽;臧建明
主权项 一种由下式(1)表示的苯并双(噻二唑)衍生物:<img file="FDA0001055482820000011.GIF" wi="1974" he="655" />其中R表示由式(B‑1)至(B‑3)中任一个所示的基团:<img file="FDA0001055482820000012.GIF" wi="1495" he="1008" />其中两个R<sup>1</sup>基团中的一个表示氢原子或氟原子,并且另一个代表氟原子、含有1‑10个碳原子的直链或支链烷基或者含有1‑10个碳原子且被至少一个氟原子取代的直链或支链烷基。条件是,‑CF<sub>3</sub>和‑CF<sub>2</sub>H从所述R基团排除,并m表示1。
地址 日本山口县宇部市
您可能感兴趣的专利