发明名称 | 偏心量计测方法和偏心量计测装置 | ||
摘要 | 偏心量计测方法对配置在计测轴上的被检光学系统照射光束来计测偏心量,该偏心量计测方法具有以下步骤:取得步骤(S100),根据从被检光学系统射出的光束取得波面数据;第1提取步骤(S200),从波面数据中提取规定的像差成分;第2提取步骤(S300),从规定的像差成分中提取第1像差成分;以及解析步骤(S400),对与第1像差成分、偏心像差灵敏度和偏心量有关的联立一次方程式进行解析,规定的像差成分是包含由于偏心而产生的像差成分在内的像差成分,第1像差成分是规定的像差成分中的与偏心量的一次方成比例的像差成分,偏心像差灵敏度是与偏心量的一次方成比例的像差灵敏度。 | ||
申请公布号 | CN106471351A | 申请公布日期 | 2017.03.01 |
申请号 | CN201580036032.X | 申请日期 | 2015.03.25 |
申请人 | 奥林巴斯株式会社 | 发明人 | 佐藤阳辅 |
分类号 | G01M11/00(2006.01)I | 主分类号 | G01M11/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 李辉;于英慧 |
主权项 | 一种偏心量计测方法,对配置在计测轴上的被检光学系统照射光束来计测偏心量,其特征在于,所述偏心量计测方法具有以下步骤:取得步骤,根据从所述被检光学系统射出的所述光束取得波面数据;第1提取步骤,从所述波面数据中提取规定的像差成分;第2提取步骤,从所述规定的像差成分中提取第1像差成分;以及解析步骤,对与所述第1像差成分、偏心像差灵敏度和偏心量有关的联立一次方程式进行解析,所述规定的像差成分是包含由于偏心而产生的像差成分在内的像差成分,所述第1像差成分是所述规定的像差成分中的与偏心量的一次方成比例的像差成分,所述偏心像差灵敏度是与偏心量的一次方成比例的像差灵敏度。 | ||
地址 | 日本东京都 |