一种有机硅基团修饰氟硼二吡咯荧光染料及其制备方法与应用

摘要

本发明涉及有机化工、精细化工技术领域，为解决目前所有的研究都是基于碳化学的修饰体系的问题，本发明提出了一种有机硅基团修饰氟硼二吡咯荧光染料及其制备方法，在惰性气体保护下，以碘代BODIPY和含氢硅烷作为原料，在碱性条件下，在溶剂中室温催化反应24~72小时，再经硅胶柱层析分离制得机硅基团修饰的氟硼二吡咯荧光染料。该荧光染料具有优异的光谱性质如高摩尔消光系数、高荧光量子产率，光稳定大大提高，是一种理想的光功能材料。

主权项

一种有机硅基团修饰氟硼二吡咯荧光染料，其特征在于，所述的荧光染料具有如(I)所示的结构式：式中，X选自H、C_1‑12的烷基、烯基、环烷基、苯基、萘基、F、Cl、Br、CN中一种，R₁、R₂、R₃分别独立选自‑Si‑R，其中R选自H、C_1‑12的烷基、烯基、环烷基、苯基、硅基中一种。