发明名称 |
一种均匀搅拌的反应釜 |
摘要 |
本实用新型公开了一种均匀搅拌的反应釜,包括釜体,所述釜体顶部设置有电机,所述电机连接有搅拌轴,所述搅拌轴上设置有轴向滑槽,所述搅拌轴上设置有铁质滑动块,所述滑动块上设置有与所述滑槽匹配的凸块,所述滑动块外侧设置有叶片,所述搅拌轴底部设置有凸环,所述凸环与所述滑动块之间设置有复位弹簧,所述釜体底部设置有电磁铁。采用该结构反应釜使得叶片的高度能够通过电磁铁对滑动块的吸引力的改变而改变,从而使得叶片能够在需要的位置进行搅拌,并且能够保证叶片完全浸入到原料中。 |
申请公布号 |
CN205988739U |
申请公布日期 |
2017.03.01 |
申请号 |
CN201620971513.1 |
申请日期 |
2016.08.30 |
申请人 |
上虞市东海化工有限公司 |
发明人 |
陈阿胖;陈江;沈德虎 |
分类号 |
B01J19/08(2006.01)I;B01J19/00(2006.01)I;B01F7/00(2006.01)I;B01F7/24(2006.01)I;B01F7/18(2006.01)I;B01F7/16(2006.01)I |
主分类号 |
B01J19/08(2006.01)I |
代理机构 |
杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 |
代理人 |
张强 |
主权项 |
一种均匀搅拌的反应釜,包括釜体(1),所述釜体(1)顶部设置有电机(2),其特征在于:所述电机(2)连接有搅拌轴(3),所述搅拌轴(3)上设置有轴向滑槽(31),所述搅拌轴(3)上设置有铁质滑动块(4),所述滑动块(4)上设置有与所述滑槽(31)匹配的凸块(41),所述滑动块(4)外侧设置有叶片(42),所述搅拌轴(3)底部设置有凸环(32),所述凸环(32)与所述滑动块(4)之间设置有复位弹簧(5),所述釜体(1)底部设置有电磁铁(6)。 |
地址 |
312369 浙江省绍兴市杭州湾上虞经济技术开发区纬三东路1号 |