发明名称 反熔丝型一次编程的记忆胞及其相关的阵列结构
摘要 一种反熔丝型一次编程的记忆胞及其相关的阵列结构。该记忆胞具有以下的结构。形成于一井区的一第一掺杂区、一第二掺杂区、一第三掺杂区与一第四掺杂区。一栅极氧化层,覆盖于该井区的该表面。一第一栅极,形成于该第一掺杂区与该第二掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第一栅极连接至一字线。一第二栅极,形成于该第二掺杂区与该第三掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第二栅极连接至一反熔丝控制线。一第三栅极,形成于该第三掺杂区与该第四掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第三栅极连接至一隔离控制线。
申请公布号 CN106469727A 申请公布日期 2017.03.01
申请号 CN201610248436.1 申请日期 2016.04.20
申请人 力旺电子股份有限公司 发明人 翁伟哲;吴孟益
分类号 H01L27/112(2006.01)I 主分类号 H01L27/112(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 王珊珊
主权项 一种反熔丝型一次编程的记忆胞,包括:井区;第一掺杂区、第二掺杂区、第三掺杂区与第四掺杂区,形成于该井区的表面;栅极氧化层,覆盖于该井区的该表面;第一栅极,形成于该第一掺杂区与该第二掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第一栅极连接至字线;第二栅极,形成于该第二掺杂区与该第三掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第二栅极连接至反熔丝控制线;第三栅极,形成于该第三掺杂区与该第四掺杂区之间的该栅极氧化层上,其中该第三栅极连接至隔离控制线;以及第一金属层,经由穿透洞连接至该第一掺杂区域,且该第一金属层为位线。
地址 中国台湾新竹市
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