| 发明名称 | 钝化层形成用组合物、带钝化层半导体基板及制法、太阳能电池元件及制法及太阳能电池 | ||
| 摘要 | 本发明提供包含下述通式(I)所示的化合物和水的第1钝化层形成用组合物及包含下述通式(I)所示的化合物的水解物的第2钝化层形成用组合物。通式(I)：M(OR<sup>1</sup>)<sub>m</sub>[通式(I)中，M表示选自Al、Nb、Ta、VO、Y及Hf中的至少1种。R<sup>1</sup>分别独立地表示烷基或芳基。m表示1～5的整数]。 | ||
| 申请公布号 | CN106471626A | 申请公布日期 | 2017.03.01 |
| 申请号 | CN201580035295.9 | 申请日期 | 2015.07.02 |
| 申请人 | 日立化成株式会社 | 发明人 | 早坂刚;吉田诚人;野尻刚;仓田靖;田中彻;森下真年;儿玉俊辅 |
| 分类号 | H01L31/0216(2014.01)I;H01L21/316(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0216(2014.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 葛凡 |
| 主权项 | 一种钝化层形成用组合物，其包含下述通式(I)所示的化合物和水，M(OR<sup>1</sup>)<sub>m</sub> (I)通式(I)中，M表示选自Al、Nb、Ta、VO、Y及Hf中的至少1种，R<sup>1</sup>分别独立地表示烷基或芳基，m表示1～5的整数。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||