发明名称 | 兼容的研磨垫以及研磨模块 | ||
摘要 | 研磨设备包括外壳、耦接至该外壳的柔性底座、以及设置于该柔性底座的第一侧上的接触区域,其中该柔性底座基于该外壳与该柔性底座的第二侧内含有的压力而膨胀和收缩,以于该第一侧形成接触面积,该接触面积小于该柔性底座的表面面积。 | ||
申请公布号 | CN106471607A | 申请公布日期 | 2017.03.01 |
申请号 | CN201580034167.2 | 申请日期 | 2015.05.13 |
申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 陈志宏;J·古鲁萨米;S·M·苏尼加 |
分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 侯颖媖 |
主权项 | 一种研磨设备,所述研磨设备包含:外壳;柔性底座,所述柔性底座耦接至所述外壳;以及接触区域,所述接触区域设置于所述柔性底座的第一侧上,其中所述柔性底座基于所述外壳与所述柔性底座的第二侧内所含有的压力而膨胀和收缩,以便在所述第一侧上形成接触面积,所述接触面积小于所述柔性底座的表面面积。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |