发明名称 エッチング液およびエッチング液のキット、これをもちいたエッチング方法および半導体基板製品の製造方法
摘要 There is provided an etching solution of a semiconductor substrate that includes a first layer containing germanium (Ge) and a second layer containing a specific metal element other than germanium (Ge), the etching solution selectively removing the second layer and including an organic alkali compound.
申请公布号 JP6088999(B2) 申请公布日期 2017.03.01
申请号 JP20140094835 申请日期 2014.05.01
申请人 富士フイルム株式会社 发明人 杉島 泰雄;高橋 智美;小山 朗子;上村 哲也
分类号 H01L21/308;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234;H01L21/8238;H01L27/088;H01L27/092;H01L29/417;H01L29/78 主分类号 H01L21/308
代理机构 代理人
主权项
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