发明名称 三维存储器
摘要 本发明公开了一种三维存储器,具有存储单元叠层结构。存储单元叠层结构,由多个存储单元阵列结构与多个绝缘层交错叠层而成,各存储单元阵列结构具有字线、有源层、复合层与源极/漏极区。字线、有源层与复合层在Y方向延伸。有源层设置于相邻的字线之间。复合层设置于相邻的字线与有源层之间,各复合层由有源层起依序包括第一介电层、电荷储存层与第二介电层。源极/漏极区,等间隔设置于有源层中。相邻的两个所述源极/漏极区、于两个源极/漏极区之间的有源层、以及于有源层上的第一介电层、电荷储存层、第二介电层与字线,共同构成存储单元。
申请公布号 CN106469732A 申请公布日期 2017.03.01
申请号 CN201510506194.7 申请日期 2015.08.18
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 李致维;程政宪;古绍泓;吕文彬
分类号 H01L27/11551(2017.01)I 主分类号 H01L27/11551(2017.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 任岩
主权项 一种三维存储器,包括:存储单元叠层结构,由多个存储单元阵列结构与多个绝缘层交错叠层而成,各所述存储单元阵列结构包括:多个字线,在Y方向延伸;多个有源层,在所述Y方向延伸,所述有源层设置于相邻的所述字线之间;多个复合层,在所述Y方向延伸,设置于相邻的所述字线与所述有源层之间,各所述复合层由所述有源层起依序包括第一介电层、电荷储存层与第二介电层;以及多个源极/漏极区,等间隔设置于所述有源层中,其中相邻的两个所述源极/漏极区、于两个所述源极/漏极区之间的有源层、以及于所述有源层上的所述第一介电层、所述电荷储存层、所述第二介电层与所述字线,共同构成存储单元。
地址 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号