发明名称 沉积锰和氮化锰的方法
摘要 本文描述含锰膜以及用于提供含锰膜的方法。将含锰膜掺杂Co、Mn、Ru、Ta、Al、Mg、Cr、Nb、Ti或V允许含锰膜的铜阻挡性质增强。本文还描述提供具有包括硅酸锰的第一层和包括含锰膜的第二层的膜的方法。
申请公布号 CN104221132B 申请公布日期 2017.03.01
申请号 CN201380019857.1 申请日期 2013.04.12
申请人 应用材料公司 发明人 汤静;李哲峰;马伯方;戴维·汤普森
分类号 H01L21/318(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I 主分类号 H01L21/318(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;赵静
主权项 一种形成含锰膜的方法,所述方法包括以下步骤:提供基板;和将所述基板暴露于第一前驱物和反应物,所述第一前驱物包括含锰有机金属化合物以沉积含锰膜,其中所述反应物为氨和氢中的一种或更多种,并且所述含锰有机金属化合物的化学式如下:<img file="FDA0001114760170000011.GIF" wi="582" he="470" />其中每一个A为独立地选自碳或硅,且每一个R为独立地选自氢、甲基、取代的烷烃或未取代的烷烃、支链烷烃或非支链烷烃、取代的烯烃或未取代的烯烃、支链烯烃或非支链烯烃、取代的炔烃或未取代的炔烃、支链炔烃或非支链炔烃或取代的芳烃或未取代的芳烃。
地址 美国加利福尼亚州