发明名称 磁盘用玻璃基板的制造方法
摘要 本发明涉及一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该方法具有对玻璃基板的主表面进行抛光、然后用含有胶态二氧化硅的抛光液对抛光后的所述主表面进行抛光的抛光工序,其特征在于,所述抛光液包含胶态二氧化硅浆料和含有阳离子型氨基的聚合物,所述胶态二氧化硅浆料包含胶态二氧化硅1质量%~30质量%和水70质量%~99质量%,所述含有阳离子型氨基的聚合物的重均分子量为300~3000、一分子中包含的氨基数为平均7个~70个,所述含有阳离子型氨基的聚合物的含量相对于所述胶态二氧化硅浆料100质量份为0.0001质量份~0.1质量份,并且所述抛光液的pH为2~7。
申请公布号 CN106469561A 申请公布日期 2017.03.01
申请号 CN201610697160.5 申请日期 2016.08.19
申请人 旭硝子株式会社 发明人 涩谷友洋
分类号 G11B5/84(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I 主分类号 G11B5/84(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 王海川;穆德骏
主权项 一种磁盘用玻璃基板的制造方法,该方法具有对玻璃基板的主表面进行抛光、然后用含有胶态二氧化硅的抛光液对抛光后的所述主表面进行抛光的抛光工序,其特征在于,所述抛光液包含胶态二氧化硅浆料和含有阳离子型氨基的聚合物,所述胶态二氧化硅浆料包含胶态二氧化硅1质量%~30质量%和水70质量%~99质量%,所述含有阳离子型氨基的聚合物的重均分子量为300~3000、一分子中包含的氨基数为平均7个~70个,所述含有阳离子型氨基的聚合物的含量相对于所述胶态二氧化硅浆料100质量份为0.0001质量份~0.1质量份,并且所述抛光液的pH为2~7。
地址 日本东京