发明名称 REDUCED PRESSURE DRYING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND REDUCED PRESSURE DRYING METHOD
摘要 감압 건조 장치에 있어서, 보다 원하는 감압 속도에 가까운 감압 속도로 감압 처리를 행하는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. 이 감압 건조 장치(1)는, 챔버(20) 내로 처리액이 부착된 기판 G를 수용하고, 챔버(20) 내를 감압함으로써, 기판 G를 건조시킨다. 감압 건조 장치(1)는, 기판 G를 수용하는 챔버(20)와, 감압 배기 수단(30)과, 감압 배기의 유량을 조절하는 밸브(45)와, 챔버(20) 내의 감압 곡선 데이터를 취득하는 학습 수단(80)과, 목표 압력치 및 목표 도달 시간이 입력되는 입력 수단(70)과, 밸브(45)의 개도를 제어하는 제어부(60)를 가진다. 제어부(60)는, 사용하는 챔버(20)의 설치 환경에 있어서의 감압 곡선 데이터를 취득하고, 상기 감압 곡선 데이터와, 목표 압력치 및 목표 도달 시간에 의거하여 밸브(45)의 개도를 조절한다. 이것에 의해, 장치의 개체차나 설치 환경에 관계없이, 보다 원하는 감압 속도에 가까운 감압 속도로 감압 처리를 행할 수 있다.
申请公布号 KR101707311(B1) 申请公布日期 2017.02.27
申请号 KR20150086557 申请日期 2015.06.18
申请人 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 发明人 도미후지 유키오;즈시 다쿠야
分类号 H01L21/02;H01L21/027;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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