| 发明名称 |
EUV RADIATION SOURCE COMPRISING A DROPLET ACCELARATOR AND LITHOGRAPHY APPARATUS |
| 摘要 |
EUV 방사선 소스는 플라즈마 형성 위치에 연료를 공급하도록 구성된 연료 공급기를 포함한다. 연료 공급기는 연료 액적들을 분출하도록 구성된 노즐, 및 연료 액적들을 가속하도록 구성된 액적 가속기를 포함한다. EUV 방사선 소스는 플라즈마 형성 위치에서 연료 공급기에 의해 공급된 연료를 방사하도록 구성된 레이저 방사선 소스를 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR101710433(B1) |
申请公布日期 |
2017.02.27 |
| 申请号 |
KR20127017646 |
申请日期 |
2010.11.29 |
| 申请人 |
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
发明人 |
메스트롬 윌버트;룹스트라 에릭;스윈켈스 제라두스;부르만 에릭 |
| 分类号 |
H05G2/00;G03F7/20;G21K5/00;H01L21/027 |
主分类号 |
H05G2/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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