METHODS OF FORMING PATTERNS OF SEMICONDUCTOR DEVICES

摘要

반도체 장치의 패턴 형성 방법에 있어서, 기판 상에 대상막을 형성한다. 대상막 상에 복수의 가이딩 필라들 및 적어도 하나의 가이딩 댐을 형성한다. 가이딩 필라들 및 가이딩 댐 사이의 공간에 블록 공중합체를 포함하는 자기 정렬막을 형성하여 가이딩 필라들 주변에 정렬되는 제1 블록들 및 가이딩 댐 주변에 정렬되는 제2 블록들을 형성한다. 가이딩 댐을 적어도 부분적으로 커버하는 트림 패턴을 형성한다. 제1 블록들을 대상막에 전사한다.