发明名称 |
酸性ガス含有ガス処理用分離膜、及び酸性ガス含有ガス処理用分離膜の製造方法 |
摘要 |
二酸化炭素等の酸性ガスとメタンガスとを含有する消化ガスから酸性ガス又はメタンガスを分離し、高濃度のメタンガスを得ることが可能な酸性ガス含有ガス処理用分離膜を提供する。表面に残留未反応基が存在する炭化水素基が導入されたポリシロキサン網目構造体に、炭化水素基含有モノアルコキシシラン、炭化水素基含有ジアルコキシシラン、炭化水素基含有モノクロロシラン、炭化水素基含有ジクロロシラン、及び炭化水素基含有トリクロロシランからなる群から選択される少なくとも一種の変性用シラン化合物を反応させ、前記残留未反応基を消滅又は低減させた酸性ガス含有ガス処理用分離膜とする。 |
申请公布号 |
JPWO2014199703(A1) |
申请公布日期 |
2017.02.23 |
申请号 |
JP20150522609 |
申请日期 |
2014.03.31 |
申请人 |
東洋ゴム工業株式会社 |
发明人 |
倉橋 智彦;蔵岡 孝治 |
分类号 |
B01D71/70;B01D69/00;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/82;C08J7/16 |
主分类号 |
B01D71/70 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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