发明名称 窒化物半導体装置
摘要 本開示の窒化物半導体装置は、基板の上方に配置された第1の窒化物半導体層と、第1の窒化物半導体層の上方に配置された第2の窒化物半導体層と、第2の窒化物半導体層の上方に配置された第1の電極、第2の電極、pn発光体と、を備える。第2の窒化物半導体層のバンドギャップが第1の窒化物半導体層のバンドギャップよりも大きく、pn発光体は、p型窒化物半導体層とn型窒化物半導体層とを有し、pn発光体が発する発光エネルギー値が、第1の窒化物半導体層に存在する電子捕獲順位より大きく、且つ第2の窒化物半導体層に存在する電子捕獲順位より大きい。
申请公布号 JPWO2014184995(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150516889 申请日期 2014.03.28
申请人 パナソニックIPマネジメント株式会社 发明人 黒田 正行;柳原 学;沖 伸一
分类号 H01L27/095;H01L21/337;H01L21/338;H01L27/098;H01L29/778;H01L29/808;H01L29/812;H01L29/872;H01L33/00;H01L33/32 主分类号 H01L27/095
代理机构 代理人
主权项
地址