ＣＭＰ用研磨液及びこれを用いた研磨方法

摘要

ルテニウム系金属を研磨するためのＣＭＰ用研磨液であって、研磨粒子と、酸成分と、酸化剤と、水と、を含有し、前記酸成分が、無機酸、モノカルボン酸、複数のカルボキシル基を有し且つ水酸基を有さないカルボン酸、及び、これらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、前記研磨粒子が前記ＣＭＰ用研磨液中において負のゼータ電位を有し、前記ＣＭＰ用研磨液のｐＨが７．０未満である、ＣＭＰ用研磨液。