| 摘要 |
誘導自己組織化（ＤＳＡ）パターニング技術用組成物を提供する。ブロックコポリマー（ＢＣＰ）を含むＤＳＡ組成物が基板に塗布され、次に自己組織化されて所望のパターンを形成する誘導自己組織化法も提供する。ブロックコポリマーは少なくとも２つのブロックを含み、高い相互作用パラメータ（Ｃｈｉ）を有するように選択される。ＢＣＰは、トップコート無しで、中性化した基板上での単純な熱アニールによって垂直なラメラを形成することができる。ＢＣＰは、１０ｎｍ以下で測定し、２０ｎｍ以下のＬ０性能を有する、ラインアンドスペースにミクロ相分離することもできる。【選択図】 図１ |
