发明名称 系に保持されている水性液体のイオン濃度を低減する装置および方法、ならびにその装置を備える装置
摘要 開示される装置は、系(200)に保持されている水性液体(201)のイオン濃度を低減する装置である。この装置は、少なくとも1つのイオン吸着部(100)を含む。イオン吸着部(100)は、液体経路と、液体経路内に配置された複数の電極対とを含む。液体経路は、液体経路と系(200)とを含む循環路が形成されるように系(200)に接続される流入口(110a)と流出口(110b)とを含む。電極対は、第1の電極と第2の電極とを含む。第1の電極は、活性炭を含有する第1の導電性物質を含む。第2の電極は、活性炭を含有する第2の導電性物質を含む。第1および第2の電極はそれぞれ、水性液体(201)が流れる空隙に面している。
申请公布号 JPWO2014171383(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20140551455 申请日期 2014.04.10
申请人 有限会社ターナープロセス 发明人 棚橋 正治;登 祥子;中野 貴徳;棚橋 正和
分类号 C02F1/48 主分类号 C02F1/48
代理机构 代理人
主权项
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