发明名称 基板処理装置、デバイス製造方法及び円筒マスク
摘要 高い生産性で高い品質の基板を生産することができる基板処理装置、デバイス製造方法及びマスクを提供する。照明領域において所定曲率で円筒面状に湾曲した第1面に沿うように、マスクのパターンを支持するマスク支持部材と、投影領域において所定の第2面に沿うように、前記基板を支持する基板支持部材と、マスクのパターンが所定の走査露光方向に移動するようにマスク支持部材を回転させ、かつ、基板が走査露光方向に移動するように基板支持部材を移動させる駆動機構と、を備え、マスク支持部材は、第1面の直径をφとし、走査露光方向に直交する方向の第1面の長さをLとした場合、1.3≦L/φ≦3.8を満足する。
申请公布号 JPWO2014178244(A1) 申请公布日期 2017.02.23
申请号 JP20150514784 申请日期 2014.03.26
申请人 株式会社ニコン 发明人 加藤 正紀
分类号 G03F7/20;B65G49/06;G03F1/00;G03F7/24;H01L21/677 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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