发明名称 |
人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット |
摘要 |
爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することを目的とする。また、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することを目的とする。本発明の人工爪の除去方法は、人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がpH8以上11以下の水溶液であることを特徴とする。 |
申请公布号 |
JPWO2014199966(A1) |
申请公布日期 |
2017.02.23 |
申请号 |
JP20150522777 |
申请日期 |
2014.06.10 |
申请人 |
富士フイルム株式会社 |
发明人 |
大橋 秀和 |
分类号 |
A61K8/19;A61K8/24;A61K8/41;A61K8/81;A61K8/87;A61Q1/14;A61Q3/00;C08F2/44;C08F265/00;C08F283/00 |
主分类号 |
A61K8/19 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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